1952

Erste Hochvakuum-Beschichtungsanlagen

1980

Wechsel der Automatisierung von elektromechanischem System zum Mikroprozessor

1990/h4>

Erste PECVD-Anlage

1998

Sputtering-Anlage der dritten Generation

2000

PC zur integrierten Prozesssteuerung

2005

Maschine vollständig digitalisiert und Online

2019

Die Innovation läuft weiter...