1952

Prima macchina di deposizione in alto vuoto

1980

Cambio di automazione da sistema elettromeccanico a microprocessore

1990

Primo impianto PECVD

1998

Terza generazione impianto Sputtering

2000

PC per controllo di processo integrato

2005

Macchina completamente digitalizzata ed online

2022

L'innovazione continua...

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