1952

Primeira máquina de deposição a alto vácuo

1980

Mudança de automação do sistema eletromecânico para o microprocessador

1990

Primeira planta PECVD

1998

Máquinas de Sputtering de terceira geração

2000

Computadores para controle de processo integrado

2005

Máquina totalmente digitalizada e online

2019

Inovação continua...