Il meglio del PVD Sputtering e Arco: KOLZER Sputtering PVD 2.0
La tecnologia di coating KOLZER Sputtering PVD 2.0 produce coating densi a livello di morfologia e privi di difetti. Il controllo della microstruttura garantisce una perfetta adesione alle superfici.
Il risultato è un rivestimento denso ed estremamente liscio a livello atomico, e supera notevolmente la qualità e tenacia dei rivestimenti classici Sputtering ed Arco.
La tecnologia PVD 2.0 con il know-how maturato da KOLZER è particolarmente adatta per il settore automotive e dove si vuole ottenere il massimo della prestazione di un PVD.
PVD 2.0 utilizza impulsi lunghi (fino a 3.0 msec) con potenza dell'ordine di centinaia di KW sul catodo. Ciò impartisce elevate energie agli atomi così da proiettarli dentro agli strati superficiali del substrato, depositando rivestimenti densi, aderenti, privi di difettosità superficiali e molto duri (> 30 GPa) e con incremento del modulo di Young (> 368 GPa).
Esempi di rivestimenti PVD 2.0:
Resistenza alla corrosione: CrN/NbN
Resistenza all’ossidazione: CrAlYN/CrN, Ti-Al-Si-N, Cr-Al-Si-N
Sistemi ottici: Ag, TiO2, ZnO, InSnO, ZrO2, CuInGaSe
MAX phases: TiSiC
Microelettronica: Cu, Ti, TiN, Ta, TaN
Hard Coatings: carbon nitride CNx, Ti–C
Superfici idrofobiche: HfO2
PVD 2.0 è stato applicato con macchine KOLZER con successo per la deposizione di film sottili nell'industria, in particolare su componentistica funzionale, dove i requisiti sono elevati.
Alcuni dati tecnici:
- potenza media: 20 kW
- potenza di picco fino a 3 MW
- potenza massima: 1500 V / 2000 A
- lunghezza di pulsazione: 50-1500 ms
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